Máy làm sạch bằng CO2 lỏng tự động là sản phẩm chính hãng được SMT Mall phân phối, phù hợp cho các dây chuyền sản xuất SMT/PCBA hiện đại.
Công nghệ làm sạch không tiếp xúc, không để lại cặn. Tương thích với các linh kiện nhạy cảm và độ chính xác cao. Thiết kế nhỏ gọn, di động cho vận hành trong phòng sạch. Vòi phun và lưu lượng điều chỉnh được cho các ứng dụng khác nhau. An toàn với môi trường — không hóa chất, dung môi hay nước thải. Lý tưởng để loại bỏ bụi siêu nhỏ, màng hữu cơ và cặn bẩn.
Máy làm sạch CO₂ lỏng là hệ thống làm sạch hiệu suất cao sử dụng công nghệ tia CO₂ lỏng để loại bỏ chất bẩn siêu nhỏ khỏi các bề mặt nhạy cảm. Khác với phun đá khô truyền thống, hệ thống này dùng carbon dioxide lỏng có áp suất để mang lại tác dụng làm sạch nhẹ nhàng hơn nhưng vẫn hiệu quả cao — lý tưởng cho các ngành chính xác như bán dẫn, tấm màn hình và sản xuất PCB.
Bằng cách kết hợp va đập tia vật lý, sốc nhiệt và giãn nở thăng hoa, máy làm sạch CO₂ lỏng đảm bảo loại bỏ hiệu quả các hạt hữu cơ và vô cơ mà không có hơi ẩm, mài mòn hay cặn, trở thành lựa chọn ưu tiên cho môi trường phòng sạch.
| Hạng mục | Mô tả |
|---|---|
| Loại máy | Làm sạch di động & thủ công |
| Mô-đun chính | Một cổng (201) / Nhiều cổng (202 / 204) |
| Loại vòi phun | Dạng bút / Dạng thanh |
| Đối tượng làm sạch | Làm sạch bề mặt kính và màn hình |
| Kích thước (SM201) | R386 × S280 × C253 mm |
| Nguồn cấp | 220VAC, 50/60Hz, 1 pha, 5A |
| Khí nén (CDA) | 5–8 kg/cm², Tối đa 3 m³/phút |
| Nguồn cấp CO₂ | CO₂ lỏng (≥6MPa, ≥–18°C) |
| Lượng tiêu thụ CO₂ | Phụ thuộc cấu hình vòi phun |
Sản xuất bán dẫn: Làm sạch wafer, quy trình CP/FT
Ngành màn hình: Làm sạch đế thủy tinh và bề mặt tấm màn hình
Lắp ráp điện tử: Làm sạch PCB và vi linh kiện
Thiết bị quang học và chính xác: Làm sạch thấu kính và chi tiết quang học trong phòng sạch
Đánh giá
Chưa có đánh giá nào.